| 品牌 | 昊量光電 | 產地類別 | 國產 |
|---|---|---|---|
| 產品系列 | TPL FAST / TPL Gray / TPL MULTI GRAY | 光源類型 | 固態飛秒鈦寶石振蕩器（Fs-Oscillator），可選一體化飛秒光纖激光器 |
| 中心波長 | 780 nm ~ 800 nm | 脈沖寬度 | ≤100 fs |
| 掃描速度 | 1-1000 mm/s | 分辨率 | 橫向150 nm / 軸向300 nm |
| 工作對焦 | 高數值孔徑（NA 1.4/1.3）油鏡 | 位移臺行程 | 200 mm三軸，可定制擴展至500 mm |
昊量光電/星朗浩宇雙光子3D打印顯微鏡
TPL 系列雙光子 3D 打印顯微鏡 —— 科研與工業微納制造一體化加工平臺
昊量光電/星朗浩宇雙光子3D打印顯微鏡
科研與工業微納制造雙光子聚合（TPP）加工平臺
產品簡介
TPL雙光子3D打印顯微鏡是一款專為科研與工業微納制造打造，在微納加工的靈活性、加工精度與制造效率方面實現了全面提升，微納加工寫入速度可達 1–1000 mm/s，加工通量可達 0.01–1 mm3/h，可滿足集成光子學、超構表面、生物芯片、微納機械、光纖直寫、微流控等領域從基礎研究到規模制造的需求。
針對不同的應用場景和加工需求，TPL提供TPL FAST、TPL Gray、TPL MULTI GRAY 三大型號可選，按需匹配二值化單點加工、單點灰度曲面制造、多通道全息并行量產三大核心需求。TPL FAST 為單點掃描型，同時兼顧分辨率和成像速度；TPL Gray 引入了灰度曝光調制，消除傳統分層打印臺階紋，加工曲面表面粗糙度 Ra＜1nm；TPL MULTI GRAY 采用多通道全息并行并原生支持灰度曝光，兼顧高制造通量與灰度加工能力。
全系列兼容多類型雙光子光刻膠（剛性、玻璃燒結、生物水凝膠、細胞支架專用膠），適配玻璃、硅片、石英、藍寶石、PDMS 柔性基板等數十種基材；極低飛秒激光熱效應可避免微結構形變，適配集成光子學、自由曲面微光學、生物醫療、MEMS 微機械、光纖直寫、超構材料等前沿領域，是高校實驗室、科研院所、光電制造企業實現納米級三維精密制造的加工平臺。
該產品產品特點
三大系列覆蓋全場景需求
三種型號可選。TPL FAST單點高效二值化加工、TPL Gray單點灰度打印、TPL MULTI GRAY多點并行含灰度加工，從基礎研究到規模制造一站式滿足，用戶可按加工精度、灰度需求與制造通量靈活選型。百納米分辨率與大面積制造
橫向分辨率可達 150nm，具備灰度曝光與無縫拼場技術，實現高精度、大面積的微納結構一致性制造。具備灰度加工能力
通過高速AOM與SLM實現亞像素級曝光能量控制，表面粗糙度Ra<1nm，滿足微透鏡陣列、自由曲面微光學、DOE等微光學器件加工需求。智能自動化加工平臺
TPL 該產品配備圖形化自動控制軟件以及豐富的內置標準數據庫，支持 CAD/STL等模型快速導入。具有自動對焦、自適應掃描策略、實時反饋控制及工藝參數管理，實現從結構設計到加工制備的一站式自動化流程，顯著降低工藝開發門檻，提高加工重復性與穩定性。
該產品選型對比
TPL FAST
專注于單焦點高速掃描，兼備精度與速度，是實驗室與工藝開發的高性價比選擇。
單焦點高速振鏡掃描，寫入速度可達 1000 mm/s
高機械與光學穩定性，長時間加工漂移 < 50 nm
亞100 nm 加工分辨率
倒置光路設計，兼容多種基材與樣品形式
TPL Gray
引入灰度調制能力，通過高速聲光調制（AOM）與亞像素能量控制實現激光曝光能量的實時動態調節實現Ra<1nm的無臺階打印。
單焦點掃描 + 高速 AOM 灰度能量調制
亞像素級曝光能量控制，實現連續梯度結構
超低表面粗糙度（Ra < 1 nm），適合微光學器件
支持折射率梯度三維直寫
TPL MULTI GRAY
采用 1–100 通道全息并行打印技術，并結合空間光調制器（SLM）原生支持灰度曝光，實現真正三維同步的含灰度并行加工，大幅提升制造通量。
多通道全息并行打印，三維同步加工
原生支持灰度曝光與亞像素能量控制
高分辨率下大幅提升制造通量
大面積并行制造，晶圓級加工
該產品技術參數指標
型號 | TPL FAST | TPL Gray | TPL MULTI GRAY | |
激光 | 光源類型 | 固態飛秒鈦寶石振蕩器（Fs-Oscillator），可選配一體化集成式飛秒光纖激光器 | ||
中心波長 | 780 nm ~ 800 nm | |||
脈沖寬度 | ≤100 fs | |||
重復頻率 | 80 MHz（振蕩器）/ 可選光纖激光器 50-100 MHz | |||
輸出功率 | 空間光直接輸出，50-200 mW | 空間光直接輸出，50-200 mW | 空間光直接輸出，500-2000 mW | |
功率控制 | 集成高速聲光調制器（AOM），實現激光開關同步 | 集成高速 AOM（帶寬 > 1 MHz），實現亞像素級灰度能量動態調制 | AOM + 空間光調制器（SLM）聯合控制，實現多通道灰度能量調制 | |
掃描部件 | 架構類型 | 高速單焦點振鏡掃描（二值化） | 高速單焦點振鏡掃描 + 灰度能量調制 | 多通道全息并行掃描（Galvo + SLM 聯合控制）+ 原生灰度 |
核心組件 | 2D 高精度兩軸大口徑高速掃描振鏡 | 2D 高速振鏡 + 高速 AOM 灰度調制模塊 | 高分辨率純相位液晶空間光調制器（2K/4K），全息多通道控制 | |
功能 | 單焦點二維掃描 | 單焦點掃描 + 逐點灰度能量控制，支持梯度結構 | 實時產生 1-100 焦斑陣列 / 貝塞爾光束 / 定制 3D 全息光場，并支持灰度調制 | |
工作對焦 | 高數值孔徑（NA 1.4/1.3）油鏡 | |||
掃描速度 | 1-1000 mm/s | 1-1000 mm/s | 群組掃描，等效 1-1000 mm/s | |
分辨率 | 單場 200×200 μm，橫向 150 nm / 軸向 300 nm | |||
灰度能力 | 不支持（二值化） | 支持，灰度級 ≥ 256，亞像素能量控制 | 原生支持，灰度級 ≥ 256（SLM 相位/振幅聯合控制） | |
并行吞吐量 | — | — | 多通道并行加工能力比單焦點提升高達 100 倍 | |
位置反饋模塊 | 定位系統 | 可選配激光干涉測距或全反射共焦界面定位系統 | ||
軸向鎖焦精度 | < 20 nm | |||
位移臺模塊 | 行程 | 200 mm 三軸（可定制擴展至 500 mm） | ||
閉環反饋 | 光柵尺閉環反饋，定位精度 100 nm，重復定位精度 50 nm | |||
微動位移臺（可選配） | 3 軸壓電位移臺，行程：100/200 μm，精度 1 nm | |||
軟件與控制 | 控制軟件 | 直觀自動化控制軟件，支持 STL/DXF/GDSII 導入與可視化編輯 | 自動化控制軟件，支持灰度切片與梯度路徑規劃 | 自動化控制軟件，支持并行通道調度與灰度曝光路徑規劃 |
結構庫 | 內置多種標準結構庫，支持參數化設計與批量加工 | 內置標準結構庫，支持灰度微光學結構參數化設計 | 內置標準結構庫，支持大規模陣列與晶圓級并行加工 | |
掃描策略 | 自適應掃描、實時反饋與過程監測，工藝數據可追溯 | 自適應灰度掃描、實時反饋與過程監測，工藝數據可追溯 | 自適應并行灰度掃描、實時反饋與過程監測，工藝數據可追溯 | |
典型應用 | 應用領域 | 集成光子學、微納機械、光纖直寫、科研樣品制備 | 微透鏡陣列、DOE 衍射光學、自由曲面微光學、梯度折射率結構 | 超構表面、大規模微納陣列、生物芯片/微流控、晶圓級并行制造 |
基板與材料兼容性 | 光刻膠 | 支持多種雙光子光刻膠（正性/負性） | 支持多種雙光子光刻膠（正性/負性/灰度膠） | 支持多種雙光子光刻膠（正性/負性/灰度膠） |
基板 | 玻璃、硅片、石英、藍寶石、透明導電基板、柔性聚合物（PDMS、SU-8、PMMA 等） | |||
針對不同的應用場景和加工需求，可以選擇不同的光刻膠。
光刻膠型號 | 核心特點 |
Nano-RESIN Standard | 均衡機械性能、光學透明性、高分辨率 |
Nano-RESIN Rigid | 高機械硬度、低收縮率、光學與機械應用 |
Nano-RESIN Glass | 燒結后為玻璃材質、抗老化性能 |
Nano-RESIN Hydro | 水凝膠基質、生物兼容性、分子滲透性 |
Nano-RESIN BIO | 生物相容性、應用于細胞支架 |
該產品應用場景
TPL雙光子3D打印系統三大系列，覆蓋微透鏡陣列加工,自由曲面加工,非球面結構加工,DOE 衍射光學元件加工,平滑曲面結構加工,梯度折射率結構加工,高精度加工,超構表面加工,大規模微納陣列加工,生物芯片加工,微流控期間加工,晶圓級并行制造加工,大面積加工等場景加工需求。
問答小貼士
灰度曝光調制有什么優勢呢？
灰度曝光調制可以通過連續動態調節每個體素的有效曝光劑量，實現不同位置有不同的固化程度，生成光滑連續的曲面。雙光子和單光子打印相比，優勢在哪？
單光子打印是線性的，光束路徑全部固化，難以實現三維打印。雙光子打印的固化機制是非線性的，僅在焦點處固化，可以實現3D體內直寫，且分辨率可以突破衍射極限。TPL MULTI GRAY系列吞吐量為多大？
TPL MULTI GRAY采用 1–100 通道全息并行打印技術，通道數可達100。灰度曝光調制的灰度級為多少？
TPL Gray系列支持灰度曝光調制，灰度級>256，TPL MULTI GRAY系列原生支持灰度曝光調制，灰度級>256。
高分辨率高成像速度的科研與工業微納制造加工平臺。
上海市徐匯區虹梅路2007號6號樓3樓
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